IBS · IBE
Ионные пучки
Ионно-лучевое формование (IBS) и ионно-лучевое травление (IBE) для наноструктур и специальных плёнок; конфигурации для НИОКР и производства.
ОБЗОР ОБОРУДОВАНИЯ
Для точной обработки и плёнок
Ионно-лучевые технологии формируют наноструктуры и высокоточные плёнки для особых материалов и передовых приборов.
- Направления
- Формование (IBS) и травление (IBE)
- Размер пластин
- 4/6/8 дюймов
- Конфигурация
- НИОКР (одна камера) / автоматизация производства
Конфигурация выбирается вокруг задач формования и травления с учётом материала, размера пластин и производительности.
ТЕХНОЛОГИЯ И ДАННЫЕ
О процессе
IBS вытягивает и ускоряет положительные ионы из источника, распыляя поверхность образца и формируя микро- и наноструктуры; обрабатываются металлы, сплавы, оксиды и соединения, энергия и плотность пучка регулируются независимо, поддерживается наклонное падение. IBE направленно распыляет замаскированную пластину инертным ионным пучком: чисто физический процесс без химии даёт крутые профили на металлах, диэлектриках и трудно травмируемых соединениях — для магнитной памяти, сверхпроводящих схем, пьезо- и оптоэлектронных материалов. Травление специальных плёнок объединяет реактивное ионное травление с ионным пучком для материалов с труднолетучими продуктами, например магнитных многослойников.
Атлас процессов




Данные процессов

НАЧНЁМ ОБСУЖДЕНИЕ
Нужен подбор ионно-лучевой установки?
Укажите материалы, целевые структуры и размер пластин — мы предложим конфигурацию и план поставки.
